UNIVERSUM® ПОКРЫТИЕ П 01 ГЛЯНЕЦ

UNIVERSUM
ТУ 2312-010-91934056-2008
ПРИМЕНЕНИЕ: Применяется для устройства тонкослойных защитных покрытий внутри практически всех типов помещений, где имеются повышенные требования к химической и абразивной стойкости пола и стен, в том числе в условиях повышенной влажности и при необходимости обеспечения специальных санитарно-гигиенических требований: промышленные, общественные и жилые здания пищевая, фармацевтическая, химическая промышленность школы, детские сады, медицинские учреждения и объекты бытового обслуживания торговые и складские помещения многоэтажные парковки, гаражи, автомастерские, самолетные ангары резервуары для воды, канализационные очистные сооружения -для защиты минеральных строительных материалов от воздействия агрессивных сред подвалы, склады и погреба полы теплиц, оранжерей и ферм и т.п.
ПРЕИМУЩЕСТВА: высокая химическая стойкость и стойкость к истиранию низкая стоимость простота нанесения готовность к применению (однокомпонентный материал) высокая адгезия покрытия к основанию быстрое отверждение нанесенного покрытия
ТРЕБОВАНИЯ К ОСНОВАНИЮ: Основание должно быть достаточно прочным (марка бетона не ниже М250). Поверхность должна быть чистая, ровная, сухая (максимальная влажность 4%) и не содержать непрочнодержащиеся частицы. Основание должно соответствоватьтребованиям СНиП 2.0.13-88 "Полы", СНиП 3.0403-87 "Изоляционные и отделочные работы". Слабые и разрушенные места должны быть удалены механически, например дробеструйной обработкой или фрезерованием. Неровности и поры должны быть заполнены шпаклевочными составами. Основание должно быть загрунтовано праймерами Universum® Грунтовка Э 02/ Э 03/ Э 04/ Э 05/ Э 06. Загрунтованное основание должно блестеть и не впитывать жидкость. Получение бездефектного покрытия возможно только при полном заполнении пор основания грунтовкой.
РАСХОД: Расход материала Universum® составляет 100-150 г/м2 на один слой. При нанесении материала с расходом на один слой больше вышеуказанного, возможно образование дефектов в покрытии (пузырей и пор).